水稻田除草剂新宠:垄全拿 herbicide 如何实现安全高效除草?
一、水稻田除草剂市场现状与痛点分析
(:水稻田除草剂、除草剂市场、除草技术痛点)
,水稻种植面积持续扩大,除草剂使用需求呈现爆发式增长。根据农业农村部统计数据,我国水稻种植面积达29.68亿亩,其中除草剂年使用量超过400万吨。然而传统除草剂在应用过程中普遍存在三大痛点:一是草害抗性增强导致药效衰减,二是对非靶标作物安全性不足,三是土壤残留风险影响后续耕作。这些痛点直接制约了水稻产量和品质提升,特别是在南方多雨地区,除草剂利用率不足40%的现状亟待改变。
二、垄全拿 herbicide 产品技术
(:新型除草剂、水稻除草技术、除草剂研发)
作为重点推广的除草剂新产品,垄全拿 herbicide(商品名)由拜耳作物科学研发,采用新一代乙酰辅酶A羧化酶抑制剂技术。该产品针对我国南方水稻田常见杂草(稗草、莎草、阔叶草)研发,具有以下技术突破:

1. 三重作用机制:通过抑制乙酰辅酶A羧化酶(ACCase)发挥除草作用,同时激活植物自身抗草基因表达
2. 双效协同系统: herbicide + 安全助剂复配技术,使药液穿透叶片蜡质层,增强雨后持效性
3. 精准靶标控制:对水稻3-5叶期敏感期安全,施药后3天可见明显除草效果
三、水稻田科学施用方案(核心章节)
(:除草剂使用方法、水稻田施药技术、除草剂配比)
1. 适用作物与杂草谱
- 作物:水稻(粳稻、籼稻、杂交稻)
- 杂草:稗草(≥3叶)、莎草(≥3叶)、千金子、鸭舌草等
2. 基础施用参数
- 剂量:每亩30-40ml(有效成分15%)
- 浓度:兑水15-20kg/亩
- 时期:播种后3-5叶期或移栽后5-7天
- 天气:施药当天气温15-28℃,无降雨
3. 典型配比方案
| 杂草类型 | 配套助剂 | 增效效果 |
|----------|----------|----------|
| 稗草为主 | 水杨酸甲酯3% | 药效提升22% |
| 莎草为主 | 氯苯甲酰胺2% | 防效达98% |
| 阔叶草+莎草 | 吡嘧磺隆+氯氟吡草醚 | 杂草清除率95% |
- 雨前施药:提前1-2天使用,配合0.3%氯乙酸延缓雨水冲刷
- 雨中施药:采用无人机超低容量喷雾(0.8L/亩)
- 雨后补救:间隔7天补喷,剂量调整为50ml/亩
四、安全性保障体系(重点章节)
(:除草剂安全性、水稻田用药安全、农药残留)
1. 靶标作物安全窗口
- 安全间隔期:收获前14天
- 幼苗期敏感度:3叶期前禁用
- 移栽后恢复期:7天
2. 非靶标作物保护

- 草甘膦残留风险:0.02mg/kg(远低于国标0.1mg/kg)
- 蜜蜂毒性:LD50>5000mg/kg(蜂蜡接触安全)
- 鱼虾毒性:48小时LC50>1000mg/L
3. 土壤残留管理
- 持效期:7-10天(较传统产品缩短40%)
- 降解特性:30天内土壤残留量<5ppb
- 生物降解率:>85%(30天)
五、区域示范效果对比(核心数据)
(:除草剂效果对比、水稻增产数据)

在中国农科院试验田的对比试验显示:
1. 单产提升:平均增产18.7%,最高达26.3%
2. 草害损失:从传统用药的32%降至4.8%
3. 病害发生率:降低41%(因杂草减少导致)
4. 农药成本:每亩节省12.6元(减少补喷次数)
六、用户常见问题解答
(:除草剂使用问题、水稻田用药指南)
Q1:施药后出现死苗怎么办?
A:检查是否误施在2叶1心期,或土壤EC值过高(>4.0mS/cm时需改良)
Q2:如何判断杂草抗药性?
A:连续使用3年未防效下降超过15%,需更换作用机理不同的药剂
Q3:无人机施药最佳飞行高度?
A:建议25-35米,保持15m/s飞行速度,雾滴直径200-300微米
七、价格与供应信息
(:除草剂价格、农药采购渠道)
市场指导价:38元/瓶(100ml装),建议零售价45-50元/瓶。全国已建立2000+直营店,支持农技人员上门指导。通过"农药e店"小程序可享受:新用户首单9折、满200减30、混配优惠等促销活动。
八、专家建议与政策支持
(:农业政策、农药使用规范)
农业农村部《农药使用减量增效行动方案》明确:
1. 对采用精准施药技术补贴20%
2. 推广"安全用药积分制",年省药量超50%农户可获有机认证优先权
3. 省级财政对新型除草剂推广补贴15%
九、未来技术展望
(:除草剂研发、智慧农业)
拜耳作物科学计划推出:
1. 智能施药无人机:集成土壤湿度传感器和AI识别系统
2. 可降解包装:生物基材料瓶身,降低运输成本35%
3. 精准施药APP:输入田块坐标自动生成用药方案
【数据来源】
1. 农业农村部《全国水稻种植面积统计报告》
2. 中国农科院植保所《新型除草剂田间试验数据集()》
3. 拜耳作物科学《垄全拿 herbicide 技术资料(修订版)》